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合作企業(yè)新人才需求公告

芯片開封

SEM及EDX

探針臺應用

EMMI應用

OBIRCH

LC液晶熱點偵測

芯片研磨

去金球

X-Ray應用

SAM應用

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OBIRCH 原理： 用激光束在器件表面掃描，激光束的部分能量轉化為熱量。如果互連線中存在缺陷或者空洞，這些區(qū)

域附近的熱量傳導不同于其他的完整區(qū)域，將引起局部溫度變化，從而引起電阻值改變ΔR，如果對互連線施加恒定電

壓，則表現為電流變化ΔI= (ΔR/V)I2, 通過此關系，將熱引起的電阻變化和電流變化聯(lián)系起來。將電流變化的大小與所成

像的像素亮度對應，像素的位置和電流發(fā)生變化時激光掃描到的位置相對應。這樣就可以產生OBIRCH像來定位缺陷.

OBIRCH 應用：

OBIRCH常用于芯片內部高阻抗及低阻抗分析，線路漏

電路徑分析.利用OBIRCH方法，可以有效地對電路中缺

陷定位，如線條中的空洞、通孔下的空洞。通孔底部高

阻區(qū)等；也能有效的檢測短路或漏電,是發(fā)光顯微技術的

有力補充。